磁控溅射镀膜系统
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磁控溅射镀膜系统
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简介： 本系统为单室超高真空磁控溅射镀膜装置, 可用于开发单层及多层功能膜－各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等材料。
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磁控溅射镀膜系统

磁控溅射镀膜系统


设备用途 ：

本系统为单室超高真空磁控溅射镀膜装置, 可用于开发单层及多层功能膜－各种硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等材料。

磁控溅射镀膜系统
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标签：磁控溅射镀膜系统,镀膜系统
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