气相沉积设备
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气相沉积设备
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简介: LPCVD MM650是一款低压化学气相沉积设备,工艺成熟且稳定,早期用于TOPcon电池的量产。其产能为每小时9400片182*182电池,且产线平均良率较高,镀膜均匀性好。设备拥有自有专利的布气系统,增加了流场的均匀性和可控性。其主要优点包括:高良率,得益于专利流程设计;石英管周期长,通过特殊设计的固定方式和低耗气量,实现了6个月的使用周期;温场稳定,通过合理的加热丝布局,确保温场的一致性和可控性。总之,LPCVD MM650在产能、良率和稳定性方面表现出色。
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气相沉积设备

LPCVD MM650是一款低压化学气相沉积设备,工艺成熟且稳定,早期用于TOPcon电池的量产。其产能为每小时9400片182*182电池,且产线平均良率较高,镀膜均匀性好。设备拥有自有专利的布气系统,增加了流场的均匀性和可控性。其主要优点包括:高良率,得益于专利流程设计;石英管周期长,通过特殊设计的固定方式和低耗气量,实现了6个月的使用周期;温场稳定,通过合理的加热丝布局,确保温场的一致性和可控性。总之,LPCVD MM650在产能、良率和稳定性方面表现出色。


气相沉积设备LPCVD MM650


低压化学气相沉积设备,工艺成熟,稳定,较早用于TOPcon电池量产的LPCVD设备。


产能:


9400PCS/小时@182*182电池产线平均良率较高,镀膜均匀性好;自有专利的布气系统,增加了流场均匀性和可控性


设备优点:


良率高:自有专利的流程设计带来量产中高的良率,镀膜均匀性好。

石英管周期长:通过特殊设计的石英管固定方式和低的耗气量,实现6个月的使用周期。

温场稳定:通过合理的加热丝布局,具有较好一致性好和可控性,从而使温场稳定可控。

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标签:气相沉积设备,电池设备
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