高真空磁控溅射离子镀膜设备
高真空磁控溅射离子镀膜设备是一种在现代冶金和材料科学领域中不可或缺的先进工具。该设备通过在高真空环境下进行磁控溅射或多弧离子镀膜，能够制备出高质量的薄膜材料，广泛应用于各种工业和科研领域。设备的主要功能包括高真空获取与测量、样品或工件的精确放置与运动控制、磁控靶或多弧源的灵活选择以及辅助镀膜工艺的集成。
一、 设备主要功能及组成
1. 设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、磁控靶或多弧源系统、辅助镀膜工艺系统及电气控制系统等五部分组成。
2. 高真空机组采用分子泵机组或离子泵机组。
3. 样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。
4. 多种磁控靶及多弧源可选，全部模块化设计，标准接口法兰。
5. 辅助镀膜工艺系统可根据需要灵活搭配。
6. 可选配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。
7. 电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。
二、 主要技术参数
1． 真空室尺寸：Ø450、Ø540、Ø650、Ø750、Ø1000、Ø1200（定制）
2． 极限真空度：≤6.7×10-5Pa（分子泵机组）/ ≤5.0×10-6Pa（离子泵机组）
3． 漏率：≤10-7 Pa•L/s
4． 可选磁控靶：1.5英寸~3英寸圆形靶 / 矩形单靶、中频孪生靶 / 非标磁控靶
5． 磁控靶电源：直流源 / 13.56MHz射频源 / 中频源
6． 可选多弧靶（小弧源）：Arc60 / Arc100 / 非标
7． 辅助镀膜装备：霍尔离子源、线性阳极层离子源、辉光清洗靶
8． 可选偏压电源：-200V偏压电源
9． 样品台：可在线升降、旋转、水冷、衬底加热
10． 工件转架：三轴联动（公转、自转、单样品自转），增强镀膜均匀性，可加热
11． 可选配工艺系统：手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等
12． 供电电源：380V 50Hz（三相五线制）
13． 进水排管径：DN25
14． 工作水压：0.2Mpa
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京公网安备 11010702002294号
