小液滴喷射制备系统是一种先进的冶金实验设备，专门用于在高真空或超纯气氛保护下制备低熔点和高熔点材料的均匀微球。该系统能够在室温至1200℃的熔融温度范围内工作，配备进口红外测温仪和热偶，确保精确的温度控制。其极限真空度达到7×10⁻³ Pa，可通入氩气作为工作气氛，并通过质量流量计精确控制气体流量。系统采用35KVA、30-80KHz的感应熔炼喷注技术，通过调整气体流量来控制液滴的初始速度。此外，设备还具备冷却介质收集罐、可调节的液滴发生系统以及触摸屏+PLC控制系统，确保实验过程的灵活性和安全性。预留的拓展接口可用于增材制造的模拟和探究，进一步拓展了设备的应用范围。这种设备在冶金领域具有重要应用价值，尤其适用于高性能微球材料的制备和研究。

产品应用：

高真空条件下制备低熔点材料的均匀微球；

高真空或超纯气氛保护下，制备高熔点材料的均匀微球；

预留拓展接口，用于增加沉积模块，用于增材制造的模拟和探究。

产品参数：

1.熔融温度范围：室温~ 1200℃；配置进口红外测温仪及热偶；

2.极限真空度：7x 10-3 Pa；可通入工作气氛：氩气；用质量流量计控制流量；

3.典型的坩埚样品尺寸：φ50X80；

4.熔炼电源：35KVA；30-80KHz；

5.感应熔炼喷注系统：通过气瓶+减压阀+截止阀+质量流量计将气体引入液滴发生器；通过调整流量来调节液滴的初始速度。

6.收集罐可采用冷却介质：真空淬火油（用户自备）；

7.液滴发生系统：控制波形、频率和振幅多种样式可选，谐振的初始位置可调，可实现实验参数的大范围调整，以满足工艺摸索的需要；

8.设备采用触摸屏+PLC控制系统，设有水流继电保护功能，及其它连锁保护；

9.设备可以加装高速摄影系统（用户自备），进行辅助分析实验结果。