二维硫化钼生长设备
简单介绍：
二维硫化钼生长设备由预热炉、反应炉，真空系统、供气系统以及轨道支架五部分组成。二维硫化钼生长设备前端配的预热炉能够用来预热蒸发固态源，反应炉能够提供反应所需的热环境。
详情介绍：
该二维材料生长设备由预热炉、反应炉，真空系统、供气系统以及轨道支架五部分组成。前端配的预热炉能够用来预热蒸发固态源，反应炉能够提供反应所需的热环境。两台电炉均安装在滑轨支架上，可以实现快速升降温，提升实验效率。炉管内配有热电偶测温，可以准确控制反应条件。所有电路均采用高清全彩触摸屏控制，操作简单直观易于上手。
供气系统采用两路质量流量计，流量控制精密，操作简单直观；真空系统采用高品质双极旋片
真空泵，真空度可达1.0E-1Pa，完全满足CVD晶体生长实验的需要。
二维硫化钼生长设备用途：
本产品主要应用于二维材料的CVD法生长实验，尤其适合二维硫化钼的制备。
二维硫化钼生长设备技术参数：
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京公网安备 11010702002294号
