简介： CY-RTP1000-Φ300-T型1200℃快速退火炉是一款专为半导体及材料研究领域设计的高性能设备。该设备采用革新的加热技术，配备红外卤素管灯加热，能够实现真正的基片温度测量，无需传统温度补偿，确保温度控制的精准性和重复性。其不锈钢冷壁真空腔室设计，结合高真空分子泵组，可将真空度降低至5×10⁻⁶ Torr，有效避免材料污染，提升退火质量。此外，设备配备快速数字PID温度控制、触摸屏操作界面以及兼容常压和真空环境的多功能设计，适用于多种材料的热处理和退火工艺，是半导体制造和材料科学实验中的理想选择。