简介： OTF-1200X-IR-IISL是一款900℃双温区红外加热快速热处理炉，专为冶金及材料科学实验设计。其炉管直径为4英寸，样品台滑轨周围嵌有可伸缩波纹管，可在真空或气氛保护环境下实现样品的快速移动。该设备最大升温速率达到50℃/s，最大冷却速率达到10℃/s，能够高效完成快速热处理任务。此外，它还可通过HPCVD方法生长二维晶体，一个加热区用于蒸发固体原料，另一个加热区用于样品沉积，特别适用于冶金领域中二维材料的生长和金属薄膜的制备。