简介： OTF-1200X-S-HPCVD是一款1200℃小型开启式管式炉，专为冶金及材料合成实验设计。其炉管直径为50mm，配备步进电机控制坩埚在炉管内的移动，能够实现精确的温度控制和材料处理。这种设计特别适合用于冶金领域中的材料蒸发、升华以及薄膜沉积等实验，可有效控制材料的生长过程和微观结构，为研究高性能金属材料和复合材料提供重要的实验支持。