简介： RTP-1000-LV3C是一款900℃的快速热处理（RTP）管式炉，专为半导体基片、太阳能电池及其他样品（尺寸可达3英寸）的退火工艺设计。该设备配备三路浮子流量计和机械泵，真空度可达10⁻³ Torr。采用9kW红外灯加热，最快升温速度可达100℃/秒，配备30段精确温度控制，精度为±1℃。此外，设备还配有RS485接口和控制软件，可通过计算机控制运行并显示温度曲线。其安装尺寸为600mm×600mm×597mm，重量为210lbs。在冶金领域，该设备可用于快速热处理金属材料，优化材料的微观结构和性能。