1200℃小型坩埚移动管式炉
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1200℃小型坩埚移动管式炉
来源:深圳市科晶智达科技有限公司
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简介: OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩埚移动管式炉,专为直接蒸发沉积和快速热处理实验设计,尤其适用于二维材料的生长。其炉管直径为50mm,最高工作温度可达1200℃,通过磁铁推动坩埚移动,实现精确的材料沉积和热处理。在冶金领域,该设备可用于研究二维材料的生长机制及其在高温环境下的性能表现,为开发新型二维材料及其在冶金中的应用提供重要支持。
产品详细

OTF-1200X-S-DVD 1200℃小型坩埚移动管式炉

OTF-1200X-S-DVD 1200℃小型坩埚移动管式炉


应用范围:OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩埚移动管式炉(通过磁铁推动坩埚移动),其炉管直径为50mm,炉体最高工作温度为1200℃,此款设备设计针对于直接蒸发沉积或快速热处理实验,用于二维材料的生长。 

产品型号 :OTF-1200X-S-DVD 

上架时间 :2019-07-22 

安装尺寸:炉体关闭: 1055mm (L) × 300mm(W) × 400mm(H) 

                 炉体打开: 1055mm (L) × 300mm(W) × 560mm(H) 

重量:22kg

OTF-1200X-S-DVD是一款小型坩埚移动管式炉(通过磁铁推动坩埚移动),其炉管直径为50mm,炉体最高工作温度为1200℃,此款设备设计针对于直接蒸发沉积或快速热处理实验,用于二维材料的生长。

性能指标和基本配置

OTF-1200X-S-DVD 1200℃小型坩埚移动管式炉

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标签:小型坩埚移动管式炉,管式炉,冶金设备
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