简介： OTF-1200X-50-DSL是一款专为定向生长单壁碳纳米管（SWCNTs）设计的水平滑轨式CVD生长炉，同时也适用于在硅片上生长低熔点金属单晶。其炉管直径为Φ50mm，炉体滑动速度可在1mm/s至100mm/s范围内调节，并支持左右反复滑动及自定义滑动距离，为实验提供了高度的灵活性。该系统配备可设置30段程序的高温炉、一根Φ50×1000mm的石英管和一套不锈钢真空法兰，能够满足多种材料生长的需求。在冶金领域，该设备可用于研究低熔点金属的单晶生长机制，为开发高性能金属材料提供重要的实验支持。