1200℃旋转CVD管式炉
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1200℃旋转CVD管式炉
来源:深圳市科晶智达科技有限公司
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简介: OTF-1200X-5L-R-CVD是一款1200℃旋转CVD管式炉,专为电池粉体材料表面包覆及其他粉体材料表面修饰设计。炉体配备3个加热区,确保温度均匀性,同时搭载4通道精密混气系统,可精准控制反应气体。其安装尺寸为1950mm×600mm×1320mm,重量约130kg,结构紧凑且功能强大,能够满足高校、科研机构和企业实验室在材料表面处理和修饰方面的多样化需求。
产品详细

OTF-1200X-5L-R-CVD 1200℃旋转CVD管式炉

OTF-1200X-5L-R-CVD 1200℃旋转CVD管式炉


应用范围:OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋转CVD炉。炉体有3个加热区,可提高温度均匀性,同时配有4通道的精密混气系统。此款管式炉设计主要用于电池粉体材料表面包覆或其他粉体材料表面修饰。

产品型号 :OTF-1200X-5L-R-CVD

上架时间 :2021-03-18

安装尺寸:1950mmL X 600mmW X 1320mmH

重量:约130 Kg

OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋转CVD炉。炉体有3个加热区,可提高温度均匀性,同时配有4通道的精密混气系统。此款管式炉设计主要用于电池粉体材料表面包覆或其他粉体材料表面修饰。

性能指标和基本配置

OTF-1200X-5L-R-CVD 1200℃旋转CVD管式炉

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标签:管式炉,冶金设备
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