立式管式炉
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立式管式炉
来源:郑州科恩泰科仪器有限公司
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简介: 垂直管式炉是一种实验室设备,用于在受控大气条件下对材料进行高温处理。它由一根垂直方向的石英管组成,石英管封闭在一个加热室内,可以实现精确的温度控制和均匀的热量分布。这些炉子通常用于各种应用,包括热处理、淬火、退火、晶体生长和化学气相沉积(CVD)涂层。立式管式炉具有可编程温度控制器、真空密封功能和用于样品处理的专用附件等先进功能,为材料加工提供了多功能性和精确性。垂直管式炉能够产生可控气氛并达到高温,是研发、材料科学和工业应用领域的重要工具。
产品详细

立式管式炉

立式管式炉


货号 : KT-VTF

最高温度

1800℃

炉管直径

50 / 60 / 80 / 100 毫米

加热区长度

300 / 450 / 600 / 800 毫米

简介

垂直管式炉是一种实验室设备,用于在受控大气条件下对材料进行高温处理。它由一根垂直方向的石英管组成,石英管封闭在一个加热室内,可以实现精确的温度控制和均匀的热量分布。这些炉子通常用于各种应用,包括热处理、淬火、退火、晶体生长和化学气相沉积(CVD)涂层。立式管式炉具有可编程温度控制器、真空密封功能和用于样品处理的专用附件等先进功能,为材料加工提供了多功能性和精确性。垂直管式炉能够产生可控气氛并达到高温,是研发、材料科学和工业应用领域的重要工具。

应用

垂直管式炉是一种多功能加热设备,可广泛应用于各行各业和实验室环境。对于需要精确温度控制并能在真空或受控气体环境下操作的工艺,它们尤其有用。

气淬试验:垂直管式炉通常用于气淬试验,将样品从高温快速冷却到冰水或油等淬火介质中。这使研究人员能够研究材料相变以及快速冷却对材料性能的影响。

热处理: 立式管式炉可用于各种热处理工艺,包括退火、回火和应力消除。这些工艺可提高材料的机械性能,如强度、硬度和延展性。

化学气相沉积(CVD): 垂直管式炉用于 CVD 工艺,在气态环境中通过化学反应在基底上沉积薄膜。半导体行业通常使用这种技术来制造电子设备。

晶体生长:垂直管式炉用于晶体生长,晶体从熔融或气相中生长出来。这种技术用于生产光学、电子和其他应用领域所需的高质量晶体。

材料测试:立式管式炉用于材料测试,如热导率测量、熔点测定和相变。这些测试可提供有关材料特性的宝贵信息。

其他应用:垂直管式炉还可用于其他各种应用,包括

烧结

钎焊

煅烧

陶瓷

玻璃加工

实验室研究

原理

立式管式炉的工作原理是辐射传热。加热元件通常由二硅化钼 (MoSi2) 或碳化硅 (SiC) 制成,位于垂直管的周围,发射红外辐射,被管内的样品吸收。这种辐射可均匀地加热样品,从而提供精确高效的温度控制。该炉的设计允许快速加热和冷却,因此适用于各种应用,包括材料合成、热处理和温度测量。

优点

垂直或倾斜定位炉腔:可进行各种实验,包括流化床加热、拉晶生长、淬火等。

多种机械功能: 这些功能包括样品悬挂、拉动、旋转和释放,为实验设置提供了多样性。

工作温度范围广: 最高工作温度最高温度可达 1800℃,应用范围广泛。

专门的连衣裙设备定制: 可根据特定的实验要求调整炉子。

双炉壳设计: 内外炉壳之间的强制气流可保持较低的炉面温度,确保安全。

PID 可编程温度控制: 出色的控制精度和稳定的加热性能,可选择远程和集中控制。

VTF Pro 触摸屏控制器: 方便用户进行程序设置、数据分析和配方管理。

安全功能: 过流保护、过温报警和热耦合检测,提高安全性。

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标签:立式管式炉,管式炉,冶金设备
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