高真空晶体炉
用途概况：
高真空晶体炉采用感应加热、电阻加热方式，可用铱金、铂金、石墨、钼等坩埚。
主要用途和适用范围：
可以生长氧化物晶体（如YAG:Nd、Al2O3、TeO2、LiTaO3、LiNbO3等），是科研院所、企事业单位新晶体材料的提拉法、下降法、泡生法、温梯法生长性能研究和生产的优良可靠设备。
主要功能与特点：
1.高精度丝杠、高质量电机使得传动系统更加精确和稳定。
2.模块化电路设计，控制电路更加稳定、可靠、易于维护。
3.高精度重量传感器保证了出色的自动直径控制性能。
4.全电脑控制，晶体外形控制更出色、更少人工监测。
5.关键参数实时呈现，晶体生长过程一目了然。
6.紧急情况自动处理，为设备和坩埚提供一定的安全保障。
技术参数：
1.原理加热采用感应加热方式，坩埚在石英管内，封装在外壳内。分子泵外置。
2.石英桶80*90*400用于放置坩埚保温材料。
3.中频功率15KW，2.5kHz
4.真空5*10-3PA冷炉极限真空
5.慢速提拉0.1-10mm/h
6.快速提拉10-70mm/min
7.旋转速度0.1-50r/min
8.坩埚35*35，可加热至1600度材质Pt
9.下部密封与石英桶密封，循环水强制冷却。抽真空接口，充气口。
10.上部密封与石英桶密封，循环水强制冷却，与上提拉波纹管接口
11.旋转机构包括旋转电机，旋转密封磁流体
12.提拉机构旋转机构安装上提拉机构移动块上。提拉机构包括，步进电机，减速机，滚珠丝杠、导轨，立柱和立柱旋转机构。
13.HMI用于设定升降问程序，运行，停止、暂停，中频启停。升降控制包括，慢升，慢降，快升和快降及速度大小。（快升为手按住升或将，松开停止）旋转控制包括：正转，反转，停止，速度大小。
14.指示灯三色，红、黄、绿，用于故障报警。
15.为控制柜包括温度控制，运动控制电器等安装参数。
0
0
0
0
0
宣传 
宣传 
宣传 
京公网安备 11010702002294号
