高真空CVD系统
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高真空CVD系统
来源:上海钜晶精密仪器制造有限公司
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简介:
上海钜晶生产的高真空CVD系统(型号:CVD-1700)是一款高性能的化学气相沉积设备,专为科研和工业应用设计。该系统由高温管式炉、高真空扩散泵/分子泵系统、多通道高精度数字质量流量控制系统和自动压强控制系统等组成,能够实现高真空度0.001—0.0001Pa的混合气体环境,适用于多种材料的生长和制备,如半导体材料、纳米材料、薄膜材料等。
产品详细
高真空CVD系统
型号:CVD-1700
品牌:上海钜晶
发货周期:1-5个工作日
接受订制:可按要求定制
上海钜晶生产的高真空CVD系统(型号:CVD-1700)是一款高性能的化学气相沉积设备,专为科研和工业应用设计。该系统由高温管式炉、高真空扩散泵/分子泵系统、多通道高精度数字质量流量控制系统和自动压强控制系统等组成,能够实现高真空度0.001—0.0001Pa的混合气体环境,适用于多种材料的生长和制备,如
半导体材料
、
纳米材料
、薄膜材料等。
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标签:高真空CVD系统,真空CVD系统,冶金
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