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机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼

来源：江苏先丰纳米材料科技有限公司
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简介： 货号CAS号编号包装参数1010341317-33-5XFG161盒基底尺寸:10mmx10mm产品名称中文名称:机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼英文名称：MechanicalexfoliationMo

产品详细

货号	CAS号	编号	包装	参数
101034	1317-33-5	XFG16	1 盒	基底尺寸: 10 mmx10 mm

产品名称中文名称:机械剥离氧化铝基底单层二硫化钼英文名称：Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3性质

形态：薄膜

参数

基底：氧化铝基底尺寸：10 mmx10 mm

MOS2面积:＞10 μm2

应用

先丰纳米**推出机械剥离制备的二硫化钼，相比较锂插层制备的单层类石墨烯材料，该类材料具有缺陷少，优异的光学性质，可以研究层数和荧光效应，此外，由于保持了原有晶格结构，所以该类材料是制备器件的理想材料