简介

美国Filmetrics公司的F60-C光学膜厚测量仪采用r-θ极坐标移动平台，能快速准确地测量各种晶圆尺寸上的薄膜厚度和光学常数n&k，适用于多种材料如氧化硅、氮化硅等。该设备支持自定义测试点，并能在短时间内完成大面积分布图测量，提供便捷的在线演示与技术支持服务。

美国Filmetrics 光学膜厚测量仪 F60-C膜厚测量仪

自动化薄膜厚度分布图案系统

F60-c 光学膜厚测量仪先进的薄膜光谱反射系统，可以很简单快速地获得薄膜的厚度及 n&k， 采用 r-θ 极坐标移动平台，可以在几秒钟的时间内快速的定位所需测试的点并测试厚度， 可随意选择一种或极坐标形、 或方形、或线性的图形模式，也可以编辑自己需要的测试点。 针对不同的晶圆尺寸，盒对盒系统可以很容易的自动转换，匹配当前盒子的尺寸。 49点的分布图测量只需耗时约 45秒。

可测样品膜层

基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测量。例如

氧化硅 氮化硅 类金刚石 DLC

光刻胶 聚合物 聚亚酰胺

多晶硅 非晶硅 硅