一、简介

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。FilmetricsF60系列的产品可像F50产品一样测绘薄膜厚度和折射率，但它增加了许多用于生产环境的功能。这些功能包括凹槽自动检测、自动基准确定、全封闭测量平台、预装软件的工业计算机，以及升级到全自動化晶圆传输的机型。不同的F60-t仪器根据波长范围加以区分。较短的波长(例如，F60-t-UV)一般用于测量较薄的薄膜，而较长的波长则可以用来测量更厚、更不平整以及更不透明的薄膜。.

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应（绝大多数薄膜都是旋转对称）。因为不涉及多种移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。

二、主要功能

测量厚度、折射率、反射率和穿透率

Ÿ单层膜或多层膜叠加

Ÿ凹槽自动检测

Ÿ自动基准确定

Ÿ全自动化晶圆传输

l技术能力

光谱波长范围：190-1700nm

厚度测量范围：5nm-450μm

集成平台/光谱仪/光源装置（不含平台）

4",6"and200mm参考晶圆

TS-SiO2-4-7200厚度标准

真空泵

备用灯

三、应用

半导体制造：光刻胶、氧化物、氮化物

液晶显示器：液晶间隙、聚酰亚胺保护膜、纳米铟锡金属氧化物

生物医疗原件：聚合物/聚对二甲苯涂层、生物膜/气泡球厚度、药物涂层支架

微机电系统：硅膜、氮化铝/氧化锌薄膜滤镜

光学镀膜：硬镀膜、增透镀膜、Filters滤光