一、简介

KLA的Filmetrics系列利用光谱反射技术实现薄膜厚度的精确测量，其测量范围从nm-mm，可实现如光刻胶、氧化物、硅或者其他半导体膜、有机薄膜、导电透明薄膜等膜厚精确测量，被广泛应用于半导体、微电子、生物医学等领域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款产品，可测量从几mm到450mm大小的样品，薄膜厚度测量范围1nm到mm级。FilmetricsF30系列的产品通过光谱反射率系统，实时在金属有机化学气相沉积(MOCVD)、分子束外延（MBE）和其他沉积工艺中测量沉积率、沉积层厚度、光学常数(n和k值)和半导体以及电介质层的均匀性，被测量的薄膜可以是平滑和半透明的，或轻度吸收的F30可检测监控反射率、厚度和沉积率通过分子束外延和金属有机化学气相沉积技术，测量薄膜。这实际上包括从氮化镓铝到镓铟磷砷的多种半导体材料.

测量原理-光谱反射

光谱椭圆偏振仪(SE)和光谱反射仪(SR)都是利用分析反射光确定电介质，半导体，和金属薄膜的厚度和折射率。两者的主要区别在于椭偏仪测量小角度从薄膜反射的光,而光谱反射仪测量从薄膜垂直反射的光。光谱反射仪测量的是垂直光，它忽略偏振效应（绝大多数薄膜都是旋转对称）。因为不涉及多种移动设备，光谱反射仪成为简单低成本的仪器。光谱反射仪可以很容易整合加入更强大透光率分析。光谱反射仪通常是薄膜厚度超过10um的首选，而椭偏仪侧重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之间，两种技术都可用。而且具有快速，简便，成本低特点的光谱反射仪通常是更好的选择。

二、主要功能

l主要应用

测量沉积率、沉积层厚度、光学常数(n和k值)和半导体以及电介质层的均匀性

Ÿ平滑和半透明薄膜

Ÿ轻度吸收薄膜

Ÿ实时测量膜厚

l技术能力

光谱波长范围：380-1050nm

厚度测量范围：15nm-70μm

较为大地提高生产力

低成本：几个月就能收回成本

A精确：测量精度高于±1%

快速：几秒钟完成测量

非侵入式：完全在沉积室以外进行测试

易于使用：直观的Windows™软件

几分钟就能准备好的系统

三、应用

半导体制造：光刻胶、氧化物、氮化物

液晶显示器：液晶间隙、聚酰亚胺保护膜、纳米铟锡金属氧化物

生物医疗原件：聚合物/聚对二甲苯涂层、生物膜/气泡球厚度、药物涂层支架

微机电系统：硅膜、氮化铝/氧化锌薄膜滤镜

光学镀膜：硬镀膜、增透镀膜、Filters滤光