高真空电子束热蒸发系统 E-Beam
高真空电子束热蒸发系统（E-Beam）是冶金和材料科学领域中一种精密的真空镀膜设备。该系统利用电子束蒸发源技术，能够实现高效率和高精度的材料蒸发与沉积，适用于制备各种金属、合金以及化合物薄膜。在冶金行业中，这种系统特别适用于高性能材料的制备，如高温合金、磁性材料、光学涂层和电子材料等。
一、 设备主要功能及组成
1. 设备主要由高真空获得与测量系统、样品台或工件转架系统、电子束蒸发源系统及电气控制系统等四部分组成。
2. 高真空机组采用复合分子泵和机械泵组成。
3. 样品台或工件转架系统可根据工艺需要灵活定制所需功能。
4. 电子束蒸发源系统采用E型电子枪，270°束偏角，具有XY扫描功能，能实现坩埚内材料均匀熔炼。
5. 标配膜厚控制仪，进行在线测量和监控。
6. 电气控制系统具有多种报警功能，能及时提示故障情况，保障设备安全运行。
二、 主要技术参数
1． 真空室尺寸：EB500、EB600（定制）
2． 极限真空度：≤6.7×10-5Pa
3． 漏率：≤10-7 Pa•L/s
4． 电子枪电源功率：6Kw
5． 电子枪高压：6KV / 8KV可转换
6． 最大电子束流：750mA
7． 坩埚容积：20ml（可定制）
8． 样品台：可在线升降、旋转、衬底加热
9． 工件转架：行星式工件架，公转自转，增强镀膜均匀性，可加热
10． 可选配工艺系统：手套箱工作站、样品预处理室、自动样品库等
11． 供电电源：380V 50Hz（三相五线制）
12． 进水排管径：DN25
13． 工作水压：0.2Mpa
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京公网安备 11010702002294号
